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GCC04C(120雙振鏡)
  • 產品詳情

    GCC04C(120雙振鏡)

    雙振鏡加工方式,加工效率大幅提升。單片加工范圍240mmx120mm,適合21寸及以下電容式觸摸屏可視區(qū)和導線區(qū)蝕刻;
    線寬最低可達20μm;
    GCC04系列激光蝕刻機專為中小尺寸電容屏導線及可視區(qū)蝕刻進行機械結構、光路結構、吸附平臺進行等設計。
    1. 應用廣:適合氧化銦錫(ITO)、銀漿(Ag)、碳納米管(CNT)、石墨烯、納米銀、鉬鋁鉬、銅等各類金屬導電膜/玻璃線路激光蝕刻。
    2. 穩(wěn)定性好:底座采用大理石基板,機械強度高,結構穩(wěn)定可靠。
    3. 精度高:專業(yè)定制激光器、平臺采用直線電機,高精光路系統(tǒng),加工速度快,精度高,重復加工精度達±2。
    4. 速度快:可選配雙振鏡,排除抓標及直線電機移動時間效率提高接近100%,總體效率提高50%~80%,圖檔越復雜效率越高;
    5. 制程簡單良率高:激光干刻工藝,良率高達95%-100%。
    6.  加工靈活:設備采用自主研發(fā)專業(yè)自動化軟件控制,操作簡單,支持不同圖檔加工,圖檔更新方便。
    7.  性價比高:無污染,可取代黃光蝕刻,無污染無耗材,有效降低加工成本。

  • 使用領域
    可用于中小尺寸電容屏導線及可視區(qū)蝕刻,特別適用于氧化銦錫(ITO)、銀漿(Ag)、碳納米管(CNT)、石墨烯、納米銀、鉬鋁鉬、銅等材料
  • 技術參數(shù)

    加工對象

    電容屏

    加工材料

    銀漿、ITO、CNT、石墨烯等


    蝕刻材料厚度/蝕刻線寬

    當6μm~10 μm(銀膠印刷厚度/均勻度)

    20μm ~30μm

    (視具體材料材質與膜厚及膜厚均勻度而定)

    線性度

    ±3μm

    綜合定位精度

    ±10μm(排除材料印刷誤差)

    重復加工精度

    ±2μm

    拼接精度

    ±5μm

    工作平臺面積

    560 mm×560 mm

    有效加工面積

    500 mm×500 mm

    定位方式

    雙CCD自動定位

    加工速度

    ≤4500 mm/s(視具體材料而定)

    單PCS加工范圍

    240 mm×120 mm(雙振鏡)


  • 產品樣本


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